

Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd



rincian perusahaan

Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd [Shandong,China] Jenis usaha:Pabrikan Pasar utama: Afrika , Amerika eksportir:21% - 30% karts:ISO9001, CCC deskripsi:Agen pembersih semikonduktor,Agen pembersih wafer,Bahan Semikonduktor Karbonil Fluoride,Gas Khusus Kimia,,

Bahasa

Beranda > Produk > Bahan kimia elektronik semikonduktor > Agen pembersih semikonduktor/wafer

KATEGORI PRODUK

Agen pembersih semikonduktor/wafer

 

Karbonil fluoride CF2O untuk etsa bahan kimia

Harga satuan: USD 500 / Gram

Min.Order	Harga satuan
100 Gram	USD 500 / Gram

Carbonyl Fluoride CAS: 353-50-4 CF2O Hight Purity for Etching Chemicals Agent Perkenalan produk Berat molekul karbonil fluoride (lih 2 O) adalah 66.01 dan titik lelehnya adalah -114 ℃, titik didih adalah -84 ℃. Karbonil fluoride adalah sejenis gas...

Kirim permintaan Klik untuk rincian

Cina Agen pembersih semikonduktor/wafer Pemasok

Zsem menghasilkan berbagai gas khusus elektronik yang mengandung kemurnian tinggi dan pelarut organik untuk membuat manufaktur chip Anda lebih mudah. Karena tugas pembersihan wafer adalah salah satu prosedur yang paling berulang kali dilakukan yang dilakukan saat membuat wafer. Dengan teknologi yang terus berubah dan perangkat menyusutnya, proses pembersihan menjadi rumit setiap kali. Kontaminan wafer berkisar dari partikel dengan kisaran diameter 0,1 hingga 20 mikron, kontaminan organik dan anorganik, dan kotoran. Pembersihan wafer harus dilakukan tanpa memperkenalkan kotoran tambahan atau kontaminan ke permukaan akhir.

Agen pembersih semikonduktor/wafer
Zsem menghasilkan berbagai gas khusus elektronik yang mengandung kemurnian tinggi dan pelarut organik untuk membuat manufaktur chip Anda lebih mudah. Karena tugas pembersihan wafer adalah salah satu prosedur yang paling berulang kali dilakukan yang dilakukan saat membuat wafer. Dengan teknologi yang terus berubah dan perangkat menyusutnya, proses pembersihan menjadi rumit setiap kali. Kontaminan wafer berkisar dari partikel dengan kisaran diameter 0,1 hingga 20 mikron, kontaminan organik dan anorganik, dan kotoran. Pembersihan wafer harus dilakukan tanpa memperkenalkan kotoran tambahan atau kontaminan ke permukaan akhir.

Produk panas

produk baru